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云南MOS管制定

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-10

    CE極間相當(dāng)“短路”,即呈“開(kāi)”的狀態(tài)。三極管在截止?fàn)顟B(tài)(發(fā)射結(jié)、集電結(jié)都是反偏置)時(shí),其CE極間的電流極小(硅管基本上量不到),相當(dāng)于“斷開(kāi)(即‘關(guān)’)”的狀態(tài)。三極管開(kāi)關(guān)電路的特點(diǎn)是開(kāi)關(guān)速度極快,遠(yuǎn)遠(yuǎn)比機(jī)械開(kāi)關(guān)快;沒(méi)有機(jī)械接點(diǎn),不產(chǎn)生電火花;開(kāi)關(guān)的控制靈敏,對(duì)控制信號(hào)的要求低;導(dǎo)通時(shí)開(kāi)關(guān)的電壓降比機(jī)械開(kāi)關(guān)大,關(guān)斷時(shí)開(kāi)關(guān)的漏電流比機(jī)械開(kāi)關(guān)大;不宜直接用于高電壓、強(qiáng)電流的控制。2020-08-30什么是高反壓開(kāi)關(guān)三極管晶體三極管工作在開(kāi)關(guān)狀態(tài)時(shí),發(fā)射結(jié)的電壓小于PN結(jié)的導(dǎo)通電壓,基極電流為零,集電極電流和發(fā)射極電流都為零,集電極和發(fā)射極之間相當(dāng)于開(kāi)關(guān)的斷開(kāi)狀態(tài),即為三極管的截止?fàn)顟B(tài)。開(kāi)關(guān)三極管處于截止?fàn)顟B(tài)的特征是發(fā)射結(jié),集電結(jié)均處于反向偏置。此時(shí)三極管能夠承受額電壓越高,其被擊穿的可能性越小,工作越可靠,所以在一些特殊電路中必須選用高反壓開(kāi)關(guān)三極管,例如彩色電視機(jī)的行輸出電路,一般高反壓三極管的耐壓都在1500伏以上。2020-08-30有關(guān)三極管的開(kāi)關(guān)作用三極管都有開(kāi)關(guān)作用。普通三極管當(dāng)B極沒(méi)有電流時(shí)會(huì)截止的,但是可控硅(也是一種三極管)卻是只管導(dǎo)通不能控制截止,就是說(shuō)B極給電流導(dǎo)通之后不能控制EC截止。另一種晶體管,叫做場(chǎng)效應(yīng)管(FET),把輸入電壓的變化轉(zhuǎn)化為輸出電流的變化。云南MOS管制定

    此時(shí)N型半導(dǎo)體的源極和漏極的負(fù)電子被吸引出來(lái)而涌向柵極,但由于氧化膜的阻擋,使得電子聚集在兩個(gè)N溝道之間的P型半導(dǎo)體中(見(jiàn)圖b),從而形成電流,使源極和漏極之間導(dǎo)通。我們也可以想像為兩個(gè)N型半導(dǎo)體之間為一條溝,柵極電壓的建立相當(dāng)于為它們之間搭了一座橋梁,該橋的大小由柵壓的大小決定。圖給出了P溝道的MOS管。MOS管工作原理圖工作過(guò)程,其工作原理類(lèi)似這里不再重復(fù)。下面簡(jiǎn)述一下用C-MOS場(chǎng)效應(yīng)管(增強(qiáng)型MOS管)組成的應(yīng)用電路的工作過(guò)程(見(jiàn)圖)。電路將一個(gè)增強(qiáng)型P溝道MOS管和一個(gè)增強(qiáng)型N溝道MOS場(chǎng)效應(yīng)管組合在一起使用。當(dāng)輸入端為低電平時(shí),P溝道MOS管導(dǎo)通,輸出端與電源正極接通。當(dāng)輸入端為高電平時(shí),N溝道MOS場(chǎng)效應(yīng)管導(dǎo)通,輸出端與電源地接通。在該電路中,P溝道MOS場(chǎng)效應(yīng)管和N溝道MOS場(chǎng)效應(yīng)管總是在相反的狀態(tài)下工作,其相位輸入端和輸出端相反。通過(guò)這種工作方式我們可以獲得較大的電流輸出。同時(shí)由于漏電流的影響,使得柵壓在還沒(méi)有到0V,通常在柵極電壓小于1到2V時(shí),MOS場(chǎng)效應(yīng)管既被關(guān)斷。不同場(chǎng)效應(yīng)管其關(guān)斷電壓略有不同。也正因?yàn)槿绱耍沟迷撾娐凡粫?huì)因?yàn)閮晒芡瑫r(shí)導(dǎo)通而造成電源短路。云南MOS管制定柵極電壓很低,一般在幾伏到幾十伏之間。

    三極管和MOS管的開(kāi)關(guān)功能哪個(gè)略勝一籌我們?cè)谧鲭娐吩O(shè)計(jì)中三極管和mos管做開(kāi)關(guān)用時(shí)候有什么區(qū)別工作性質(zhì):1.三極管用電流控制,MOS管屬于電壓控制.2、成本問(wèn)題:三極管便宜,MOS管貴。3、功耗問(wèn)題:三極管損耗大。4、驅(qū)動(dòng)能力:MOS管常用來(lái)電源開(kāi)關(guān),以及大電流地方開(kāi)關(guān)電路。實(shí)際上就是三極管比較便宜,用起來(lái)方便,常用在數(shù)字電路開(kāi)關(guān)控制。MOS管用于高頻高速電路,大電流場(chǎng)合,以及對(duì)基極或漏極控制電流比較敏感的地方。一般來(lái)說(shuō)低成本場(chǎng)合,普通應(yīng)用的先考慮用三極管,不行的話考慮MOS管實(shí)際上說(shuō)電流控制慢,電壓控制快這種理解是不對(duì)的。要真正理解得了解雙極晶體管和mos晶體管的工作方式才能明白。三極管是靠載流子的運(yùn)動(dòng)來(lái)工作的,以npn管射極跟隨器為例,當(dāng)基極加不加電壓時(shí),基區(qū)和發(fā)射區(qū)組成的pn結(jié)為阻止多子(基區(qū)為空穴,發(fā)射區(qū)為電子)的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng),在此pn結(jié)處會(huì)感應(yīng)出2020-08-30三極管的原理,開(kāi)關(guān)ON和OFF,三個(gè)三極管是怎么導(dǎo)通的閉合開(kāi)關(guān),TR1導(dǎo)通致使TR2截止,使TR3基極電平升高,導(dǎo)通燈亮,斷開(kāi)開(kāi)關(guān)時(shí),TR1截止TR2導(dǎo)通,TR3截止燈滅2020-08-30三極管怎樣做開(kāi)關(guān)三極管在飽和導(dǎo)通(發(fā)射結(jié)和集電結(jié)都是正偏置)時(shí),其CE極間電壓很小,比PN結(jié)的導(dǎo)通電壓還要低(硅管在)。

    器件的結(jié)溫等于大環(huán)境溫度加上熱阻與功率耗散的乘積(結(jié)溫=大環(huán)境溫度+[熱阻×功率耗散])。根據(jù)這個(gè)式子可解出系統(tǒng)的大功率耗散,即按定義相等于I2×RDS(ON)。我們已將要通過(guò)器件的大電流,可以計(jì)算出不同溫度下的RDS(ON)。另外,還要做好電路板及其MOS管的散熱。雪崩擊穿是指半導(dǎo)體器件上的反向電壓超過(guò)大值,并形成強(qiáng)電場(chǎng)使器件內(nèi)電流增加。晶片尺寸的增加會(huì)提高抗雪崩能力,終提高器件的穩(wěn)健性。因此選擇更大的封裝件可以有效防止雪崩。4.選擇MOS管的后一步是決定MOS管的開(kāi)關(guān)性能。影響開(kāi)關(guān)性能的參數(shù)有很多,但重要的是柵極/漏極、柵極/源極及漏極/源極電容。這些電容會(huì)在器件中產(chǎn)生開(kāi)關(guān)損耗,因?yàn)樵诿看伍_(kāi)關(guān)時(shí)都要對(duì)它們充電。MOS管的開(kāi)關(guān)速度因此被降低,器件效率也下降。為計(jì)算開(kāi)關(guān)過(guò)程中器件的總損耗,要計(jì)算開(kāi)通過(guò)程中的損耗(Eon)和關(guān)閉過(guò)程中的損耗(Eoff)。MOSFET開(kāi)關(guān)的總功率可用如下方程表達(dá):Psw=(Eon+Eoff)×開(kāi)關(guān)頻率。而柵極電荷(Qgd)對(duì)開(kāi)關(guān)性能的影響大。mos管的驅(qū)動(dòng)功率很小(2~4w)。

    MOS管由多數(shù)載流子參與導(dǎo)電,也稱(chēng)為單極型晶體管。它屬于電壓控制型半導(dǎo)體器件。具有輸入電阻高(10^7~10^12Ω)、噪聲小、功耗低、動(dòng)態(tài)范圍大、易于集成、沒(méi)有二次擊穿現(xiàn)象、安全工作區(qū)域?qū)挼葍?yōu)點(diǎn),現(xiàn)已成為雙極型晶體管和功率晶體管的強(qiáng)大競(jìng)爭(zhēng)者。所有MOS集成電路(包括P溝道MOS,N溝道MOS,互補(bǔ)MOS—CMOS集成電路)都有一層絕緣柵,以防止電壓擊穿。一般器件的絕緣柵氧化層的厚度大約是25nm、50nm、80nm三種。在集成電路高阻抗柵前面還有電阻——二極管網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行保護(hù),雖然如此,器件內(nèi)的保護(hù)網(wǎng)絡(luò)還不足以免除對(duì)器件的靜電損害(ESD),實(shí)驗(yàn)指出,在高電壓放電時(shí)器件會(huì)失效,器件也可能為多次較低電壓放電的累積而失效。按損傷的嚴(yán)重程度靜電損害有多種形式,嚴(yán)重的也是容易發(fā)生的是輸入端或輸出端的完全破壞以至于與電源端VDDGND短路或開(kāi)路,器件完全喪失了原有的功能。稍次一等嚴(yán)重的損害是出現(xiàn)斷續(xù)的失效或者是性能的退化,那就更難察覺(jué)。還有一些靜電損害會(huì)使泄漏電流增加導(dǎo)致器件性能變壞。MOS管的定義MOS管做為電壓驅(qū)動(dòng)大電流型器件,在電路尤其是動(dòng)力系統(tǒng)中大量應(yīng)用,MOS管有一些特性在實(shí)際應(yīng)用中是我們應(yīng)該特別注意的MOS管體二極管,又稱(chēng)寄生二極管。MOSFET金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,簡(jiǎn)稱(chēng)金氧半場(chǎng)效晶體管。山東優(yōu)勢(shì)MOS管工廠直銷(xiāo)

MOS 管作為半導(dǎo)體領(lǐng)域基礎(chǔ)的器件之一,無(wú)論是在 IC 設(shè)計(jì)里,還是板級(jí)電路應(yīng)用上,都十分廣。云南MOS管制定

    首先考察一個(gè)更簡(jiǎn)單的器件--MOS電容--能更好的理解MOS管。這個(gè)器件有兩個(gè)電極,一個(gè)是金屬,另一個(gè)是extrinsicsilicon(外在硅),他們之間由一薄層二氧化硅分隔開(kāi)。金屬極就是GATE,而半導(dǎo)體端就是backgate或者body。他們之間的絕緣氧化層稱(chēng)為gatedielectric(柵介質(zhì))。圖示中的器件有一個(gè)輕摻雜P型硅做成的backgate。這個(gè)MOS電容的電特性能通過(guò)把backgate接地,gate接不同的電壓來(lái)說(shuō)明。MOS電容的GATE電位是0V。金屬GATE和半導(dǎo)體BACKGATE在WORKFUNCTION上的差異在電介質(zhì)上產(chǎn)生了一個(gè)小電場(chǎng)。在器件中,這個(gè)電場(chǎng)使金屬極帶輕微的正電位,P型硅負(fù)電位。這個(gè)電場(chǎng)把硅中底層的電子吸引到表面來(lái),它同時(shí)把空穴排斥出表面。這個(gè)電場(chǎng)太弱了,所以載流子濃度的變化非常小,對(duì)器件整體的特性影響也非常小。當(dāng)MOS電容的GATE相對(duì)于BACKGATE正偏置時(shí)發(fā)生的情況。穿過(guò)GATEDIELECTRIC的電場(chǎng)加強(qiáng)了,有更多的電子從襯底被拉了上來(lái)。同時(shí),空穴被排斥出表面。隨著GATE電壓的升高,會(huì)出現(xiàn)表面的電子比空穴多的情況。由于過(guò)剩的電子,硅表層看上去就像N型硅。摻雜極性的反轉(zhuǎn)被稱(chēng)為inversion,反轉(zhuǎn)的硅層叫做channel。隨著GATE電壓的持續(xù)不斷升高,越來(lái)越多的電子在表面積累。云南MOS管制定

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