主營產品: 微納加工技術服務|真空鍍膜技術服務|紫外光刻技術服務|材料刻蝕技術服務
光源的穩定性是光刻過程中圖形精度控制的關鍵因素之一。光源的不穩定會導致曝光劑量不一致,從而影響圖形的對準精度和質量。現代光刻機通常配備先進的...
干法刻蝕也可以根據被刻蝕的材料類型來分類。按材料來分,刻蝕主要分成三種:金屬刻蝕、介質刻蝕、和硅刻蝕。介質刻蝕是用于介質材料的刻蝕,如二氧化...
隨著科技的飛速發展,消費者對電子產品性能的要求日益提高,這對芯片制造商在更小的芯片上集成更多的電路,并保持甚至提高圖形的精度提出了更高的要求...
材料刻蝕技術是半導體制造、微納加工及MEMS等領域中的關鍵技術之一。刻蝕技術通過物理或化學的方法對材料表面進行精確加工,以實現器件結構的精細...
廣東省科學院半導體研究所微納加工平臺,面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,建立了一條實驗室研發線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機結合的專業人才隊伍。平臺當前緊抓技術創新和公共服務,面向國內外高校、科研院所以及企業提供開放共享,為技術咨詢、創新研發、技術驗證以及產品中試提供技術支持。